光清洗燈三
所屬分類： 光清洗燈
低壓紫外汞燈發射的 185nm 和 254nm 波長的紫外光除有清洗去除物體表麵的有機汙染物的功能外，而且還能夠進行表麵改質。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開的同時拉出
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低壓紫外汞燈發射的185nm和254nm波長的紫外光除有清洗去除物體表麵的有機汙染物的功能外，而且還能夠進行表麵改質。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開的同時拉出H原子和C原子，與空氣中的氧氣分解出來的活性氧（O）生成極性很強的原子團（OH，CHO，COOH）即羥基等活性基，同時材料表麵有機汙染物的清洗效果顯著，活化的基體表麵具有良好的粘合力和鍵合特性，這些羥基和塗料、粘合劑、電鍍材料相結合，形成新的化學鍵，從而使材料表麵得到通常情況下得不到的很強的粘結強度，或者使材料得到穩定的表麵性能。
二、紫外光表麵清洗和改質技術的先進性
2.1光清洗技術是隨著當代光電子信息技術發展起來的，光電子產品的高性能、微型化要求表麵潔淨度越來越高，常規的清洗方法（如水洗、化學溶液洗、超聲波清洗等）已不能滿足要求，UV光清洗能夠達到常規的清洗方法難以達到的高清潔度，而且不存在三廢處理問題，有利於環境保護。
2.2光清洗是在常溫、常壓的環境中進行的，是一種非接觸式的幹法清洗技術。光清洗時被清洗的表麵除了光子，不與任何物體發生接觸，因為有機物經過紫外光照射發生光敏氧化反應後，生成可揮發性氣體（CO2、CO、H2O等）從表麵消散，隨著排風係統抽走，不可能重返被清洗的表麵，不會像溶液清洗時發生二次汙染。
2.3一般情況下，光清洗的表麵不會受到損傷，由於光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗後的表麵不會受到損傷或發生晶體缺陷的現象。
2.4光清洗對物體表麵微細部位（如孔穴、微細溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。由於紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表麵的極為細微的部位，發生光敏氧化反應，充分表現出光清洗的徹底性。
2.5先進工業化國家已經開始將光清洗技術由光電產品向金屬、光學、塑料、橡膠等相關產品的生產過程發展，光清洗技術的應用範圍十分廣闊，具有很強的技術生命力。
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